奥比中光获得发明专利授权：“一种基于深度信息的抠图方法及系统”
2024年06月01日 | 小微 | 浏览量：54052
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证券之星消息，根据企查查数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种基于深度信息的抠图方法及系统”，专利申请号为CN202011065060.3，授权日为2024年5月31日。
专利摘要：本发明公开了一种基于深度信息的抠图方法及系统，包括步骤：S1、采集包含有目标的深度图像与彩色图像；S2、将所述深度图像与所述彩色图像进行对齐，得到对齐后的深度图像；S3、将所述对齐后的深度图像进行阈值二值化处理以及腐蚀膨胀处理以得到三元图；S4、通过抠图算法对所述三元图与所述彩色图像进行处理以得到Alpha图；S5、利用所述Alpha图与所述彩色图像将目标分离出来以得到目标图像。本发明可使用户在不更换2D相机，不使用幕布的情况下，实现实时视频的抠图功能，利用一个深度相机取代人工交互，自动实现Trimap的获取，精度高且速度快。
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今年以来奥比中光新获得专利授权53个，较去年同期减少了23.19%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减20.96%。
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数据来源：企查查
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